Слайд 2
![Введение Под травлением понимают растворение и последующее удаление заданной части](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-1.jpg)
Введение
Под травлением понимают растворение и последующее удаление заданной части материала с
поверхности;
При травлении испытываются адгезия, непроницаемость, уровень дефектности и химическая инертность резиста;
Наиболее важными параметрами процесса являются стойкость резиста к травлению и его адгезия к подложке.
Слайд 3
![Виды травления Жидкостное (химическое) травление: а) анизотропное б) изотропное в)](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-2.jpg)
Виды травления
Жидкостное (химическое) травление:
а) анизотропное
б) изотропное
в) селективное
Сухое травление:
а) ионное
б) ионно-химическое
в) плазмохимическое
Слайд 4
![Анизотропное травление Анизотропное травление широко используется в технологии ИМС, особенно](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-3.jpg)
Анизотропное травление
Анизотропное травление широко используется в технологии ИМС, особенно для создания
узких разделяющих щелей;
Травление идет медленно и требуется нагрев раствора до температуры, близкой к его кипению.
Слайд 5
![Изотропное травление Травление идет с одинаковой скоростью во всех направлениях](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-4.jpg)
Изотропное травление
Травление идет с одинаковой скоростью во всех направлениях – как
вглубь, так и под маску;
Основным компонентом травителя является плавиковая кислота HF;
W > W0 + 2d, где W – размер вытравленной области, W0 – размер отверстия в маске, d – толщина слоя диоксида кремния.
Слайд 6
![Селективное травление Применяют для растворения определенного металла в многослойной пленочной](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-5.jpg)
Селективное травление
Применяют для растворения определенного металла в многослойной пленочной структуре;
Мерой селективности
служит отношение скоростей растворения разных металлов при одновременном воздействии одного травителя.
Слайд 7
![Ионное травление Травление выполняют в вакуумных установках путем бомбардировки пластин;](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-6.jpg)
Ионное травление
Травление выполняют в вакуумных установках путем бомбардировки пластин;
S = k*m1*m2*E/
λ*(m1+m2), где k — коэффициент, характеризующий состояние поверхности; λ — средняя длина свободного пробега иона в обрабатываемом материале, зависящая от θ.
Слайд 8
![Ионно-химическое травление Представляет собой физико-химический процесс, который происходит при достаточно](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-7.jpg)
Ионно-химическое травление
Представляет собой физико-химический процесс, который происходит при достаточно высоком давлении
газов и значительной энергии частиц;
Процессы ИХТ обладают высокой анизотропией и используются в качестве универсального процесса травления материалов;
Процессы ИХТ обладают способностью воспроизвести с шаблонов субмикронные (0,3 – 0,5 мкм) структуры.
Слайд 9
![Плазмохимическое травление Происходит в результате химических реакций между химически активными](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-8.jpg)
Плазмохимическое травление
Происходит в результате химических реакций между химически активными частицами и
поверхностными атомами материала;
осуществляется при энергиях ниже 100 эВ;
Процессы плазмохимического травления могут обеспечить обработку поликремниевых структур, а также удаление масок с фоторезистов.
Слайд 10
![Требования к процессам травления К процессам травления предъявляются следующие требования:](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/57713/slide-9.jpg)
Требования к процессам травления
К процессам травления предъявляются следующие требования:
высокая селективность;
отсутствие деградирующего влияния на свойства и размеры защитных масок;
низкий уровень загрязненности поверхности материала и искажения полученного рельефа;
высокая воспроизводимость и равномерность травления;
минимальный уровень загрязнения окружающей среды.