Интегральные утройства. Элементная база РЭС. Основные функции и конструктивно-технологические параметры презентация
Содержание
- 2. Основные функции элементной базы РЭС: 1) фильтрация; 2)задержка электрических сигналов; 3)коммутация; 4)хранение информации; 5)отображение информации; 6)преобразование
- 3. Основные характеристики элементной базы: 1)входные характеристики; 2)переходные характеристики; 3)выходные характеристики; 4)частотные характеристики,; 5)временные характеристики;
- 4. Фильтры. Классификация фильтров: 1)ФНЧ: 2)ФВЧ: 3)ПФ: 4)РФ:
- 5. Фильтры: 1)Аналоговые: LC-фильтры; RC-фильтры; электромеханические фильтры; пьезоэлектрические фильтры; фильтры на ПАВ. 2)Дискретные - фильтры на приборах
- 6. Цифровые фильтры. - входной аналоговый сигнал; - решетчатая функция; -входная цифровая решетчатая функция; - выходная цифровая
- 7. Характеристики цифровых фильтров. Импульсная характеристика g(nT): 2) Переходная характеристика:
- 8. 3) Алгоритм фильтрации: По виду алгоритма фильтрации фильтры бывают: Нерекурсивные : где, Сi – постоянные коэффициенты;
- 9. Функциональные схемы цифровых фильтров. Функциональная схема нерекурсивного цифрового фильтра:
- 10. Функциональная схема рекурсивного цифрового фильтра:
- 11. Пример. Составить функциональную схему цифрового фильтра, реализующего алгоритм: 1) 2) ; 3) ; 4) .
- 12. Синтез цифровых фильтров. ;
- 13. Алгоритм фильтрации:
- 14. Способы реализации цифровых фильтров: схемный; программный. Достоинства ЦФ: высокая стабильность; точность; компактность; надежность. Недостатки ЦФ: наличие,
- 15. Фильтры на ПАВ. Преобразователь ПАВ.
- 16. Виды преобразователей ПАВ. 1. Однофазный преобразователь ПАВ:
- 18. 2. Встречно- штыревой преобразователь ПАВ: W
- 20. Разновидности ВШП: эквидистантный; неэвидистантный; неаподизованный; аподизованный.
- 21. Конструкции фильтров на ПАВ.
- 22. Базовая конструкция:
- 23. Фильтры с вложенной многоэлементной структурой:
- 24. Аподизация фильтров на ПАВ. Методы аподизации: внешнее взвешивание; непосредственное взвешивание;
- 28. Основные этапы конструирования фильтров на ПАВ. Выбор материала звукопровода. Используемые материалы: ниобат лития, танталат лития, кварц,
- 29. Этапы изготовления фильтров на ПАВ. Изготовление звукопроводов. Включает следующие операции: 2. Металлизация рабочей поверхности звукопровода. ориентация
- 30. 3. Фотолитография. Включает следующие операции: нанесение на подложку фоторезиста; совмещение фотошаблона с подложкой и экспонирование фоторезиста;
- 31. Линии задержки. Классификация. Основные параметры. Основные параметры линии задержки: 1. Время задержки. Интервалы времени задержки: 2.
- 32. 4. Температурная стабильность времени задержки. 5. Относительный уровень ложных сигналов. 6. Габариты и вес линии задержки.
- 33. Типы линий задержек: электрические ЛЗ(с сосредоточенными и распределенными параметрами); ультразвуковые ЛЗ; ЛЗ на ПАВ; ЛЗ на
- 34. Линии задержки на ПАВ. большой диапазон задержки (0.0001...1)мс; полная интегральность конструкции; низкие потери (10...30)дБ.
- 36. Конструкция линии задержки на ПАВ. 1) Линии со средним временем задержки . 2)Линии с большим временем
- 39. Фильтры на приборах с зарядовой связью.
- 40. Структура ПЗС.
- 41. Ввод информации в линейку ПЗС.
- 43. Снятие информации в устройствах на ПЗС.
- 45. Коммутация.
- 46. Оптроны. Обобщенная структурная схема оптрона:
- 47. Основные характеристики оптронов. коэффициент передачи К1; максимальная скорость передачи информации F; напряжение (Uразв) и сопротивление развязки
- 48. Устройство оптронов. Виды излучателей. Микроминиатюрная лампочка накаливания:
- 49. 2) Неоновая лампочка:
- 50. 3) Порошковая электролюминесцентная ячейка:
- 51. 3)Полупроводниковый инжекционный светоизлучающий диод: Uвх
- 52. Фотоприемники.
- 53. Конструкция оптронов.
- 54. а) б) в)
- 55. Специальные виды оптронов. Оптопрерыватель:
- 56. 2) Отражательный оптрон: 3) Оптроны со световодом.
- 57. Элементы запоминающих устройств. Классификация запоминающих устройств: По физической сущности явлений: 1) элементы, основанные на принципе изменения
- 58. По правилу считывания информации: 1) с произвольным считыванием и записью; 2) с последовательным считыванием и записью.
- 59. Параметры запоминающих устройств: 1) объем памяти; 2) количество разрядов, записываемых в память; 3) способ доступа к
- 60. Магнитные элементы ЗУ. Устройство памяти на основе ЦМД.
- 61. Генерирование ЦМД.
- 62. Считывание информации. 1) Магниторезисторный датчик. 2) Магнитооптический датчик. Структурная схема устройства считывания:
- 66. Элементы ЗУ на ферритовых сердечниках. Принцип действия ОЗУ.
- 68. Основные параметры. 1) количество разрядов и записываемых чисел; 2) время обращения памяти; 3) стабильность работы.
- 69. ПЗУ на ферритовых сердечниках.
- 70. Сравнительная характеристика элементов ЗУ.
- 71. ВОЛС. Задачи, решаемые при создании ВОЛС: 1) создание волокон, способных передавать световые потоки; 2) разработка мощных
- 75. Источники излучения.
- 76. Структура волоконно-оптической системы. Основные характеристики ВОЛС: 1) максимальная длинна межретрансляционного участка; 2) пропускная способность, оцениваемая максимальной
- 77. Поколения ВОЛС: I. λизл=0,82 мкм; νmax= 140 Мбит/с; Lрет= 20...30 км; β=2,5 дБ/км. II. λизл=1,3...1,5 мкм;
- 78. Интегральные схемы. Степень интеграции: По степени интеграции: малые (МИС) – k=1…2; средние ИС (СИС) – k=2…3;
- 81. Технологические особенности изготовления ИС. Полупроводниковые ИС.
- 82. Напряжение питания: 1,2; 2,4; 3,0; 4,0; 5,2; 6; 9; 12; 16; 24; 30; 48; 100;150;200 В
- 83. Элементы индикации устройств отображения информации. Классификация элементов индикации. Активные ЭИ: электронно – лучевые трубки (ЭЛТ); лампы
- 84. Характеристики элементов индикации.
- 86. Светотехнические характеристики: Для активных элементов: световой поток Ф0 [лн]; сила света J0 = dФ0/dω0 [кд]; яркость
- 87. Тема: «Полупроводниковые ЗУ» 1. Оперативные ЗУ (с матричной структурой).
- 89. Скачать презентацию